国内贸易：公司及下属企业主营工业气体（液氧、液氩、液氮、二氧化碳等）、危险化学品（氢氟酸、苯、硫酸）等化学品经营

　　高纯氧气体主要用于半导体器件的热氧化、扩散、化学气相沉积及等离子蚀刻等工艺，还可用于光导纤维、彩色显像管制造并作标准气、校正气和零点气等。作为氧化源与产生高纯水的反应剂。对于MOS场效应器件，氧化层必须相当致密，采用高纯氧气进行干法氧化，其氧化层结构致密，正电荷少，耐压高，能满足生产需要。与四氟化碳混合，可用于等离子刻蚀。
　　高纯氩在半导体工业中用作生产高纯硅和锗晶体的保护气体；可用作系统清洗、屏蔽和增压用惰性气体；在化学气相沉积、溅射和退火等工艺中有所应用。高纯氩可用作色谱载气，也可用作大规模集成电路中混合气体的稀释气。氩被广泛用于充填弧光灯、荧光灯和电子管；焊接保护气；在钛、钴及其他活性金属的生产中用作屏蔽气；在黑色冶金中，氩气用于吹炼特种钢，以提高钢的质量，特别是不锈钢制造中消耗大量氩气
　　高纯氮气在集成电路、半导体和电真空器仵制造中用作化学气相沉积时的载气，液体扩散源的携带气，高温扩散炉中器件的保护气等。显像管制造中要求氮气纯度为99. 99%以上；而在集成电路制造中用作底气的氮气纯度为99. 999%～99. 9999%，甚至更高。在某些金属材料生产中，需用高纯氮气。